WH83涂層測厚儀

WH83涂層測厚儀

WH83涂層測厚儀測量范圍從零到1250增強(qiáng)到零到1500的測量范圍，并且新增了能測出大值MAX，和小值MIN，以及平均值A(chǔ)VG，是一款升級(jí)版的涂層測厚儀。既可用于實(shí)驗(yàn)室中的精密測量，也可用于工程現(xiàn)場廣泛地應(yīng)用在金屬制造業(yè)、化工業(yè)、航kong航天、科研開發(fā)等領(lǐng)域，是企業(yè)保證產(chǎn)品質(zhì)量、商檢測控、*的檢測儀器。

WH83涂層測厚儀的技術(shù)參數(shù)

測量范圍	0-1500um
工作電源	兩節(jié) 5 號(hào)電池
測量精度誤差	零點(diǎn)校準(zhǔn) ±(1+3%H);二點(diǎn)校準(zhǔn)±【(1%～3%H)】H+1.5
環(huán)境溫度	0-40℃
相對(duì)濕度	≤85%
小基體	10*10mm
小曲率	凸：5mm;凹 ：5mm
薄基體	0.4mm
重量	115 克(含電池)
尺寸	110mm*65mm*30mm

WH83涂層測厚儀符合以下標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 4956─1985 磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測量 磁性方法

GB/T 4957─1985 非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度測量 渦流方法

JB/T 8393─1996 磁性和渦流式覆層厚度測量儀

JJG 889─95 《磁阻法測厚儀》

JJG 818─93 《電渦流式測厚儀》

WH83涂層測厚儀的產(chǎn)品特點(diǎn)

采用了磁性和渦流兩種測厚方法，即可測量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度;可采用單點(diǎn)校準(zhǔn)和兩點(diǎn)校準(zhǔn)兩種方法對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)，并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測量頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正，保證儀器在測量過程中儀器的準(zhǔn)確性;能快速自動(dòng)識(shí)別鐵基體與非鐵基體具有電源欠壓指示功能操作過程有蜂鳴聲提示;設(shè)有兩種關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)關(guān)機(jī)方式和自動(dòng)關(guān)機(jī)方式;有負(fù)數(shù)顯示功能，保證儀器在零位點(diǎn)的校準(zhǔn)準(zhǔn)確性;有顯示平均值、大值、小值功能[*]

WH83涂層測厚儀的測量原理

采用了磁性和渦流兩種測厚方法，可無損地測量磁性金屬基體( 如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等 )上非磁性覆蓋層的厚度(如鋁、鉻、銅、琺瑯、橡膠、 油漆等)及非磁性金屬基體(如銅、 鋁、 鋅、 錫等)上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度(如:琺瑯、橡膠、油漆、塑料等)。

a) 磁性法(F 型測量頭)

當(dāng)測量頭與覆蓋層接觸時(shí)，測量頭和磁性金屬基體構(gòu)成一閉合磁路，由于非磁性覆蓋層的存在，使磁路磁阻變化，通過測量其變化可導(dǎo)出覆蓋層的厚度。

b) 渦流法(N 型測量頭)

利用高頻交變電流在線圈中產(chǎn)生一個(gè)電磁場，當(dāng)測量頭與覆蓋層接觸時(shí)，金屬基體上產(chǎn)生電渦流，并對(duì)測量頭中的線圈產(chǎn)生反饋?zhàn)饔?，通過測量反饋?zhàn)饔玫拇笮】蓪?dǎo)出覆蓋層的厚度。

WH83涂層測厚儀的使用說明

1)開機(jī)

按下 ON 鍵后儀器聽到一聲鳴響，自動(dòng)恢復(fù)上次關(guān)機(jī)前的參數(shù)設(shè)置后，將顯示0.0μm，儀器進(jìn)入待測狀態(tài)。可測量工件了。經(jīng)過一段時(shí)間不使用儀器將自動(dòng)關(guān)機(jī)。

2)關(guān)機(jī)

在無任何操作的情況下，大約 3分鐘后儀器自動(dòng)關(guān)機(jī)。按一下“ON”鍵，立即關(guān)機(jī)。

3)單位制式轉(zhuǎn)換(公制與英制轉(zhuǎn)換)

在待測狀態(tài)下，按μm/mil可轉(zhuǎn)換其測量單位。

4)測量

a)準(zhǔn)備好待測試件

b)是否需要校準(zhǔn)儀器，如果需要，選擇適當(dāng)?shù)男?zhǔn)方法進(jìn)行(參照 4 儀器校準(zhǔn))

c)迅速將測量頭與測試面垂直地接觸并輕壓測量頭定位套，隨著一聲鳴響，屏幕顯示測量值，儀器會(huì)自動(dòng)感應(yīng)被測基體：感應(yīng)到是磁性基體時(shí)儀器顯示 Fe感應(yīng)到是非磁性金屬時(shí)儀器顯示 NFe。測量時(shí)請(qǐng)始終保持儀器處于垂直狀態(tài)!提起測量頭可進(jìn)行下次測量;

WH83涂層測厚儀的影響因素

a) 基體金屬磁性質(zhì)

磁性法測厚受基體金屬磁性變化的影響(在實(shí)際應(yīng)用中，低碳鋼磁性的變化可以認(rèn)為是輕微的)，為了避免熱處理和冷加工因素的影響，應(yīng)使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn);亦可用待涂覆試件進(jìn)行校準(zhǔn)。

b) 基體金屬電性質(zhì)

基體金屬的電導(dǎo)率對(duì)測量有影響，而基體金屬的電導(dǎo)率與其材料成分及熱處理方法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)。

c) 基體金屬厚度

每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度。大于這個(gè)厚度，測量就不受基體金屬厚度的影響。

d) 邊緣效應(yīng)

本儀器對(duì)試件表面形狀的陡變敏感。因此在靠近試件邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進(jìn)行測量是不可靠的。

e) 曲率

試件的曲率對(duì)測量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑的減少明顯地增大。因此，在彎曲試件的表面上測量是不可靠的。

f) 試件的變形

測量頭會(huì)使軟覆蓋層試件變形，因此在這些試件上測出可靠的數(shù)據(jù)。

g) 表面粗糙度

基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對(duì)測量有影響。粗糙程度增大，影響增大。粗糙表面會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差，每次測量時(shí)，在不同位置上應(yīng)增加測量的次數(shù)，以克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙，還必須在未涂覆的粗糙度相類似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對(duì)儀器的零點(diǎn);或用對(duì)基體金屬?zèng)]有腐蝕的溶液溶解除去覆蓋層后，再校對(duì)儀器的零點(diǎn)。

h) 磁場

周圍各種電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強(qiáng)磁場，會(huì)嚴(yán)重地干擾磁性法測厚工作。

i) 附著物質(zhì)

本儀器對(duì)那些妨礙測量頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感，因此，必須清除附著物質(zhì)，以保證儀器測量頭和被測試件表面直接接觸。

j) 測量頭壓力

測量頭置于試件上所施加的壓力大小會(huì)影響測量的讀數(shù)，因此，要保持壓力恒定。

k) 測量頭的取向

測量頭的放置方式對(duì)測量有影響。在測量中，應(yīng)當(dāng)使測量頭與試樣表面保持垂直。

WH83增強(qiáng)版涂層測厚儀使用時(shí)應(yīng)當(dāng)遵守的規(guī)定

a) N 基體金屬特性

對(duì)于磁性方法，標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。

對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

b) 基體金屬厚度

檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，如果沒有，可采用 3.3)中的某種方法進(jìn)行校準(zhǔn)。

c) 邊緣效應(yīng)

不應(yīng)在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測量。

d) 曲率

不應(yīng)在試件的彎曲表面上測量。

e) 讀數(shù)次數(shù)

通常由于儀器的每次讀數(shù)并不*相同，因此必須在每一測量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測量，表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。

f) 表面清潔度

測量前，應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì)，如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等，但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。

WH83增強(qiáng)版涂層測厚儀的保養(yǎng)與維修

1 環(huán)境要求

嚴(yán)格避免碰撞、重塵、潮濕、強(qiáng)磁場、油污等。

2 更換電池

本儀器在使用中，當(dāng)電池電壓過低時(shí)，即屏幕上的電池標(biāo)志顯示為空，應(yīng)盡快給儀器更換電池。更換電池時(shí)應(yīng)特別注意電池安裝的正負(fù)極性的方向。

3 故障排除

1)更換電池

儀器 5 天以上不使用時(shí)應(yīng)取出電池。當(dāng)儀器出現(xiàn)低電壓提示時(shí)應(yīng)更換電池，更換電池時(shí)請(qǐng)注意極性。

2)恢復(fù)出廠設(shè)置

開機(jī)狀態(tài)下，在 2 秒內(nèi)依次按下按鍵 、▲、▲、▼、▼，屏幕顯示英文對(duì)話詢問是否確認(rèn)恢復(fù)出廠設(shè)置，要進(jìn)行恢復(fù)出廠設(shè)置，選擇””并按μm/mil確認(rèn)。

3)測量頭校準(zhǔn)修正

出現(xiàn)較大誤差(如：校準(zhǔn)不當(dāng)或有操作錯(cuò)誤等)可作六點(diǎn)修正校準(zhǔn),校準(zhǔn)儀器